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电子束光学镀膜机 蒸发镀膜碳化钛膜料
产品参数: 电子束镀膜设备 主要用途: 用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等,广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产。 系统组成: 系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。 技术指标: 1.极限真空度:≤6.7×10 Pa 2.恢复真空时间:从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 3.系统漏率:6. 7×10-7Pa.L/S; 4.e型电子枪:阳极电压:8kv(1套) 5.坩埚:水冷式坩埚,4穴设计,每个容量11ml 6.功率:0-8KW可调 7.电阻蒸发源(可选)电压:5V 8.功率:电流300A,输出功率2Kw1套,可切换水冷电 极3根,组成2个蒸发舟 9.基片尺寸:可放置4″基片 10.样品台:基片可连续回转,转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm加热温度 600°C±1°C,可调手动控制样品挡板组件1套 气路系统:质量流量控制器1路 石英晶振膜厚控制仪:监测膜厚显示范围:0-99μ9999?